氯 碱 与 多 晶 硅
Chlor-alkali Control Valves

 典型规格书:     液氯调节阀

 

 

 

氯碱

 

离子膜烧碱工艺

烧碱目前以离子膜工艺为主。按流程顺序分为一次盐水、二次盐水精制、电解、淡盐水脱氯、Cl2处理、H2处理等工序。核心工序是二次盐水精制和电解部分。盐水一次精制的主要目的是控制悬浮物(SS)与各种杂质离子的含量在要求的范围内,为盐水二次精制作准备。盐水二次精制最主要部分是螯合树脂塔,,使粗盐水经过树脂塔后除去二价阳离子。部分工艺在二次精制中盐水进螯合树脂塔之前设置碳素管或其它类型过滤器,以进一步降低盐水中的悬浮物的含量。电解部分是烧碱制备流程的关键工序,符合电解要求指标的精制盐水流经电解槽时,在一定直流电作用下,离子经离子交换膜的发生迁移,最终在阴极液相形成烧碱,阳极液相产生淡盐水,阴极气相生成H2,阳极气相生成Cl2。

 

 

精制的饱和食盐水进入阳极室;纯水(加入一定量的NaOH溶液)加入阴极室,通电后H2O在阴极表面放电生成H2,Na+则穿过离子膜由阳极室进入阴极室,此时阴极室导入的阴极液中含有NaOH;Cl-则在阳极表面放电生成Cl2。电解后的淡盐水则从阳极室导出,经添加食盐增加浓度后可循环利用。?
阴极室注入纯水而非NaCl溶液的原因是阴极室发生反应为2H++2e-=H2↑;而Na+则可透过离子膜到达阴极室生成NaOH溶液,但在电解开始时,为增强溶液导电性,同时又不引入新杂质,阴极室水中往往加入一定量NaOH溶液。

比较先进的工艺和设备有:凯膜盐水精制工艺,旭化成复极自然循环电解槽,西门子氯气透平压缩机等 。

主要特殊控制阀有:

氯气,氯化物波纹管+HAST C 或MONEL 阀内件 控制阀
碱液衬塑阀,或镍材控制阀

 

多晶硅

 

工艺路线

  改良西门子法-闭环式三氯氢硅氢还原法

  氯化氢和工业硅粉在一定温度下合成三氯氢硅,然后对三氯氢硅分离精馏提纯,提纯后的三氯氢硅在氢还原炉内进行CVD反应生产高纯多晶硅。
   工序有:合成-提纯-还原-尾气回收-氢化和后处理。

  硅烷法-硅烷热分解法(美国Asimi和SGS)

   硅烷SiH4是经过四氯化硅氢化法,硅合金分解法,氢化物还原法,硅的直接氢化法等方法制取,然后将制得的硅烷气提纯后在热分解炉中生产棒状高纯度多晶硅。

  流化床法

    四氯化硅,氢气,氯化氢和工业硅在流化床内高温高压下反应生产三氯氢硅,进一步歧化加氢生成二氯二氢硅,继而生成硅烷气,通入到加入小颗粒硅粉的流化床反应炉内加热
    分解反应,生成粒状多晶硅产品。

控制阀的应用

    调节阀部分选用波纹管密封调节阀,用于有毒有还介质,如氯化氢,三氯氢硅。

    切断阀分为气动金属硬密封切断球阀,软密封切断球阀和耐磨球阀,耐磨球阀阀球和阀座采用粉末碳化钨高速喷射或整体碳化钨,用于硅粉输送。

 

行业品牌

ARCA-氯压机防喘振阀 波纹管调节阀
Samson-波纹管调节阀
Motoyama-旭化成电解槽配阀
Descote-波纹管截止阀
Ritcher-衬塑阀
Fisher-普通调节阀

 

 


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